純源鍍膜目前擁有多項核心技術，自主研發(fā)制造的純離子鍍膜設備(PureIonCoating，簡稱PIC)能夠制造出性能優(yōu)越的金屬膜、合金膜、金屬化合物膜和類金剛石薄膜；另一項自主研發(fā)的核心技術產品NDT(NewDiamondTechnology)能夠制成性能優(yōu)越穩(wěn)定的類金剛石薄膜。

    膜層系列有Ta-C、DLC、低溫氮化物膜(TiN、CrN等)、碳化物膜(CrC等)和高致密金屬/合金膜等。

      純源鍍膜制備的納米/微米級膜層具有如下特點：鍍膜溫度低、無熱應力、高純度、高致密、超硬、無顆粒、耐磨損、摩擦系數小、防刮花、耐腐蝕、均勻性好、粘附性好、導電性能可調、高熱導、生物相容性、抑菌性和紅外/激光透過率高（適當膜層材料）等。注塑機回收